| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Seiten (von - bis) | 222-225 |
| Seitenumfang | 4 |
| Fachzeitschrift | Microelectronic Engineering |
| Jahrgang | 98 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2012 |
| Extern publiziert | Ja |
Room temperature inductively coupled plasma etching of InAs/InSb in BCl3/Cl2/Ar
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