Infrared Perfect Absorbers Fabricated by Colloidal Mask Etching of Al-Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf>-Al Trilayers

T.D. Dao, K. Chen, S. Ishii, A. Ohi, T. Nabatame, M. Kitajima, T. Nagao

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

    Originalspracheundefiniert/unbekannt
    FachzeitschriftACS Photonics
    DOIs
    PublikationsstatusVeröffentlicht - 2015

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