Originalsprache | undefiniert/unbekannt |
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Fachzeitschrift | Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films |
DOIs | |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2017 |
Improvement of smooth surface of RuO<inf>2</inf> bottom electrode on Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf> buffer layer and characteristics of RuO<inf>2</inf>/TiO<inf>2</inf>/Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf>/TiO<inf>2</inf>/RuO<inf>2</inf> capacitors
T. Sawada, T. Nabatame, T.D. Dao, I. Yamamoto, K. Kurishima, T. Onaya, A. Ohi, K. Ito, M. Takahashi, K. Kohama, T. Ohishi, A. Ogura, T. Nagao
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