Fixed interface charges between AlGaN barrier and gate stack composed of in situ grown SiN and Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf> in AlGaN/GaN high electron mobility transistors with normally off capability

M. Capriotti, A. Alexewicz, C. Fleury, M. Gavagnin, O. Bethge, D. Visalli, J. Derluyn, H.D. Wanzenböck, E. Bertagnolli, D. Pogany, G. Strasser

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

    Originalspracheundefiniert/unbekannt
    FachzeitschriftApplied Physics Letters
    DOIs
    PublikationsstatusVeröffentlicht - 2014

    Dieses zitieren