Effect of barrier recess on transport and electrostatic interface properties of GaN-based normally-off and normally-on metal oxide semiconductor heterostructure field effect transistors

M. Capriotti, E. Bahat Treidel, C. Fleury, O. Bethge, C. Ostermaier, M. Rigato, S.L.C. Lancaster, F. Brunner, H. Detz, O. Hilt, J. Würfl, D. Pogany, G. Strasser

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

    Originalspracheundefiniert/unbekannt
    FachzeitschriftSolid-State Electronics
    DOIs
    PublikationsstatusVeröffentlicht - 2016

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