Originalsprache | undefiniert/unbekannt |
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Titel | ECS Transactions |
DOIs | |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2019 |
Change of electrical properties of rutile- and anatase-TiO<inf>2</inf> films by atomic layer deposited Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf>
T. Nabatame, I. Yamamoto, T. Sawada, A. Ohi, T.D. Dao, T. Ohishi, T. Nagao
Publikation: Konferenzband/Beitrag in Buch/Bericht › Konferenzartikel › Begutachtung