Fine-tuning the etch depth profile via dynamic shielding of ion beam

Lixiang Wu, K. Q. Qiu, S. J. Fu

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

OriginalspracheEnglisch
FachzeitschriftNuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B-Beam Interactions with Materials and Atoms
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2016
Extern publiziertJa

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