Fingerprint
Kooperationen und Spitzenforschungsbereiche der letzten fünf Jahre
Profile
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Atomic layer etching of sputter-deposited AlN thin films in radiofrequency Cl2-Ar plasmas
Nesterenko, I., Miranda Mena, J. G., Kalas, G. B., Solonenko, D., Farr, J., Harzenetter, S., Dao, T. D., Schulze, J. & Andrianov, N., 9 Apr. 2026, in: Plasma Sources Science and Technology. 35, 4Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung
Open Access -
Effect of methane-hydrogen gas admixture on the selectivity toward platinum in dry etching of lead zirconate titanate (PZT) thin films by inductively coupled plasma reactive ion etching
Petschnigg, M., Andrianov, N., Azeem, S. M., Griesser, T., Wang, K., Shannon, S. C., Deluca, M. & Trolier-McKinstry, S., 12 Feb. 2026, in: Journal of Vacuum Science & Technology A. 44Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung
Open Access -
Optimized low-frequency PECVD diamond-like carbon hard masks for high-selectivity thin-film lithium niobate etching
Savchenko, M. L., Solonenko, D., Azeem, S. M., Andrianov, N. A. & Cassese, T., 21 Jän. 2026, in: Journal of Applied Physics.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung
Auszeichnungen
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Particle Trapping in a Structured Microchannel Using Standing Acoustic Waves
Fuchsluger, A. (Empfänger/-in), De Pastina, A. (Empfänger/-in), Ecker, R. (Empfänger/-in), Mitteramskogler, T. (Empfänger/-in), Voglhuber-Brunnmaier, T. (Empfänger/-in), Andrianov, N. (Empfänger/-in), Cselyuszka, N. (Empfänger/-in) & Jakoby, B. (Empfänger/-in), Juni 2024
Auszeichnung
Datei
Aktivitäten
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Atomic layer etching of sputter-deposited AlN in Cl2-Ar plasmas
Nesterenko, I. (Redner), Harzenetter, S. (Redner), Solonenko, D. (Redner), Kalas, G. B. (Redner), Dao, D. T. (Redner), Schulze, J. (Redner) & Andrianov, N. (Redner)
16 Okt. 2025Aktivität: Präsentation oder Vortrag › Vortrag
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Atomic Layer Etching of Sputter-Deposited AlN Thin Films in Cl2-Ar Plasmas
Nesterenko, I. (Redner), Farr, J. (Redner), Harzenetter, S. (Redner), Solonenko, D. (Redner), Kalas, G. B. (Redner), Dao, D. T. (Redner), Schulze, J. (Redner) & Andrianov, N. (Redner)
24 Sep. 2025Aktivität: Präsentation oder Vortrag › Vortrag
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Composition-graded Layer Enables Structural Defect Suppression and Ferroelectric Enhancement in Sc0.3Al0.7N Sputtered Thin Films
Nguyen, T. (Redner), Dao, D. T. (Redner), Miranda Mena, J. G. (Redner), Nesterenko, I. (Redner), Andrianov, N. (Redner), Moridi, M. (Redner) & Xu, T. (Redner)
22 Sep. 2025 → 26 Sep. 2025Aktivität: Präsentation oder Vortrag › Vortrag
Studienabschlussarbeiten
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Etching processes of thin film LINbO3 on insulator for next generation nanophotonic platform on 200mm wafers
nie, M. (Autor), Andrianov, N. (Betreuer), Schulze, J. (Supervisor First) & Hinkov, B. (Supervisor Second), 2025Studienabschlussarbeit: Dissertation
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Plasma-assisted Atomic Layer Etching of AlN and AlScN thin films for Photonics and MEMS applications
Nesterenko, I. (Autor), Andrianov, N. (Betreuer), Schulze, J. (Supervisor First) & Deluca, M. (Supervisor Second), 2023Studienabschlussarbeit: Dissertation